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三氯化硼/BCL3
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三氯化硼/BCL3

三氯化硼/BCL3

發布日期:2017-03-20 13:00:00

簡要描述:

1、高純三氯化硼主要用于(硅)半導體器件制造工藝中的擴散摻雜(在高溫下,經過分解生成硼雜質向硅中擴散,形成P型半導體)、離子注入(作為離子注入源,高能量作用下使硼原子離子化,產生硼離子束并注入硅形成P型淺結)、干法蝕刻(用于Al、MoSi2、TaSi2、TiSi2、Wsi等材料的蝕刻)等過程;
2、可作為許多有機反應中的優良催化劑及醫藥工業的中間體。

詳細介紹

三氯化硼 (BCl3)

 

項目名稱

純度指標(%)

三氯化硼

≥99.999 ≥99.9

雜質含量(ppm)

 

氧氣(O2)

≤1 -

氮氣(N2)

≤4 -

二氧化碳(CO2)

≤2 -
甲烷(CH4) ≤0.5

-

一氧化碳(CO) ≤0.5

-

四氯化硅(SiCl4) -

≤300

氯氣(Cl2) -

≤10

其他(Others) -

≤500

 

裝:采用44L、47L鋼瓶充裝,也可根據客戶需要分裝到4-10L的氣瓶中。

 

用途:

1、高純三氯化硼主要用于(硅)半導體器件制造工藝中的擴散摻雜(在高溫下,經過分解生成硼雜質向硅中擴散,形成P型半導體)、離子注入(作為離子注入源,高能量作用下使硼原子離子化,產生硼離子束并注入硅形成P型淺結)、干法蝕刻(用于Al、MoSi2、TaSi2、TiSi2、Wsi等材料的蝕刻)等過程;

2、可作為許多有機反應中的優良催化劑及醫藥工業的中間體。

 

理化性質: 

無色發煙液體或氣體(有毒、不燃),有強烈刺激性、酸性氣味,易潮解,在潮濕的空氣中可產生濃密白煙,在水中分解為鹽酸和硼酸,在醇中分解為鹽酸和硼酸酯, 如作溶媒, 不能使鹽與強酸產生離子作用。

 

注意事項:

1、嚴加密閉,操作場所應提供充分的局部排風和全面通風,并配備應急處理設備。操作人員須經過安全培訓,嚴格遵守操作規程。建議操作人員帶防毒面具,戴橡膠手套,并防止氣體泄漏到工作場的空氣中,避免與水接觸。搬運時要輕拿輕放或用合適的手推車來移動鋼瓶,一定不要拉,滾動,滑動或放倒鋼瓶,不要試圖抓住氣瓶的蓋來拎起它。氣瓶在使用的全過程中為固定狀態,用一個獨立的控制閥安全地從氣瓶內釋放氣體。一旦鋼瓶接好,應仔細,緩慢的打開閥門。如果使用者在操作氣瓶閥時有困難,需停止使用,并與供應商聯系。 不可將工具(如:扳手,螺絲刀,等)插入鋼瓶蓋內。否則會損壞閥門并引起泄漏。 使用可調節的扳手來打開過緊或生銹的鋼瓶蓋。不要用明火或其他臨近的熱源加熱鋼瓶的任何部分。碳鋼、普通不銹鋼、Monel蒙乃爾合金(Ni-Fe-Cu)及銅可以在沒有潮氣的情況下使用。Ni-Mo-Cr及Ni-Ti-Cr合金(13.2-32%Ni合金)、鉑及金有很好的抗腐蝕性,可以在有潮氣的情況下使用。Kel-F或Teflon(聚四氟乙烯)、PVC(聚氯乙烯)可以作為墊圈材料。

2、儲存于陰涼與通風的安全庫房。遠離火種、熱源,庫溫最好保持在35℃以下(最高存儲溫度不可高于52℃)。鋼瓶應直立擺放,保持容器(閥門)密封完好并安裝鋼瓶蓋。應與其它化學品分開存放,儲區應備有泄漏應急處理設備。

 


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